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中国生产光刻机的股票

发布时间: 2022-05-26 15:26:30

Ⅰ 生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司有ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康、荷兰ASML公司.

1、ABM

ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能的产品系列共分布于三大领域:个人产品、办公设备和工业设备,主要产品包括照相机及镜头、数码相机、打印机、复印机、传真机、扫描仪、广播设备、医疗器材及半导体生产设备等。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

5、荷兰ASML公司

这是一家总部设在荷兰艾恩德霍芬(Veldhoven)的全球最大的半导体设备制造商之一,向全球复杂集成电路生产企业提供领先的综合性关键设备。ASML的股票分别在阿姆斯特丹及纽约上市。

参考资料来源:网络-荷兰ASML公司

参考资料来源:网络-尼康

参考资料来源:网络-佳能

参考资料来源:网络-上海微电子装备有限公司

参考资料来源:网络-ABM

Ⅱ 光刻胶板块龙头股票有哪些

首先我们要了解什么是光刻胶?

光刻胶是一种感光材料,硅片制造中,光刻胶以液态涂在硅片表面,而后干燥成胶膜。光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片表面,而光刻胶的作用就是避免在硅片表面留下痕迹,在半导体材料中技术难度最大。光刻工艺成本占整个芯片制造工艺的35%,耗费时间占整个芯片工艺的40-50%。

然后,我国的光刻胶正面临着怎样的机会和危机?

危机: 光刻胶可细分为三类:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶的技术要求最高,但我国目前主要较低端的PCB光刻胶,全球光刻胶的高端核心技术被美国和日本垄断,其中日本占据了全球70%以上的市场份额。未来几年光刻胶市场的年均增长率大约是15%,材料的国产化率有望从5%快速提升至40%。

机会: 新冠疫情使得国内进出口贸易大受影响,日本“封城”导致国内光刻胶供需矛盾增加,国产替代刻不容缓。预计2022年半导体光刻胶市场约55亿,为2019年的两倍;面板光刻胶市场将达105亿。

最后,我们来看看光刻胶概念的部分龙头企业:

1、南大光电(国内领先厂家)

2、容大感光(油墨龙头企业)

3、晶瑞股份(微电子化学品龙头)

4、飞凯材料(液晶材料封装材料龙头)

5、上海新阳(半导体消耗品龙头)

Ⅲ 生产光刻机有哪些上市公司

生产光刻机上市公司:ABM、上海微电子装备有限公司、佳能、尼康。

1、ABM

ABM公司成立于1986年,总部位于美国硅谷San Jose。主要经营光罩对准曝光机(光刻机),单独曝光系统,光强仪/探针。公司的主要市场在美国和亚洲。

ABM总部位于美国硅谷,亚太销售服务、维修中心设于中国香港,公司在亚洲的中国、韩国、日本、印度、新加坡、马来西亚、台湾地区设有代理机构。W.J.H.公司为ABM指定的中国独家代理商。

2、上海微电子装备有限公司

上海微电子装备有限公司坐落于张江高科技园区内,邻近国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地和国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。

公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。

3、佳能

佳能(Canon),是日本的一家全球领先的生产影像与信息产品的综合集团,从1937年成立以来,经过多年不懈的努力,佳能已将自己的业务全球化并扩展到各个领域。

4、尼康

尼康作为世界上仅有的三家能够制造商用光刻机的公司,似乎在这个领域不被许多普通人知道,许多人只知道尼康的相机做的好,却不知道尼康光刻机同样享誉全球。

Ⅳ 上海微电子公司股票代码

上海微电子没有股票代码。这由于它既是非上市公司,也是国有控股的企业。上海微电子装备有限公司成立于2002年,主要致力于用于工业生产的投影光刻机设计、生产与销售,着眼于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的设计、制造以及技术服务,其技术中心被认定为”国家企业技术中心"。
【拓展资料】
股票(stock)是股份公司发行的所有权凭证,是股份公司为筹集资金而发行给各个股东作为持股凭证并借以取得股息和红利的一种有价证券。每股股票都代表股东对企业拥有一个基本单位的所有权。每家上市公司都会发行股票。同一类别的每一份股票所代表的公司所有权是相等的。每个股东所拥有的公司所有权份额的大小,取决于其持有的股票数量占公司总股本的比重。
股票代码是指用数字表示股票的不同含义的代码。代码是用数字简化股票的一种方式,通常来说,股票代码中的每一个数字都有一定的含义,可以让投资者和证交所明确区分股票的类别,同时代码也像车牌一样,代表了这家公司的形象,例如000001是平安银行。
一、股票代码的分类
股票在哪上市,代码也会有所不同。在上海证交所的A股是以600、601或者603开头的,上海证交所的B股是以900开头的,在深圳证交所的A股是以000开头的,其中002开头的是深证中小企业板的股票,创业板的股票是以300开头的,深圳B股是以200开的。
另外,沪市权证是以580开头的,深市权证是以031开头的,沪市新股申购的代码是以730开头的,而深市的申购代码就是股票上市代码。沪市的配股代码是700开头的,深圳市的配股代码是以080开头的。
二、股票名字前的字母含义
除了数字代码,有些股票还会在股票名称中中加上字母,其实这个也可以算是股票代码分类的一种。
1.股票加上XD,意思是该股不享受派息的权利。
2.股票前加G,表示贡献,点一下可以看见所有股票对该指数的涨跌贡献。
3.DR,股票加上DR表示股票除权除息,购买这样的股票是没有送股派息的权利。
4.NST,这种股票是指经过重组后重新上市的ST股。
5.XR,股票加上XR表示除权,购买这种股票是不能享受分红的。

Ⅳ 上海微电子是否,是上市公司,股票代码是什么

上海微电子当前还未上市,所以它并无股票代码。



上海微电子简介:


上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商,主要致力半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务,其技术中心被认定为“国家企业技术中心”。


并且之前它在之前90nm的基础上,宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机。从市场地位看,该公司当前LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先,LED光刻机市占率第一。

上海微电子目前有4个系列光刻机产品,目前所生产的600系列光刻机,已经能够满足90nm芯片生产,可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产,同时它已经拥有先进的封装光刻机技术,且已成为封测龙头企业的重要供应商,国内市场占有率高达80%,全球市场占有率达40%。

Ⅵ 中国生产28纳米芯片和光刻机的上市公司有哪些

Ⅶ 好消息!中国芯完成“破冰”,这次国产芯片光刻机EDA都来了,你怎么看

芯片限令执行以后,中国半导体材料深陷了一种临时的焦虑当中,要是要细心计算下来,中国所存有的薄弱点还确实许多,好像芯片生产制造、光刻机及其工业软件及其等别的各种各样领域手机软件当中,我们是存有着薄弱点的。

中国半导体材料发展趋势慢的缘故要了解,随着着全世界智能化的持续加快,芯片所饰演的人物角色也愈来愈关键,现如今5G及其工业物联网促进智能化更新改造的大情况下,芯片好像早已变成基本上全部行业发展的踏脚石。

三大喜讯转来,中国芯片早已完成了破冰之旅,坚信在下面的发展趋势当中,在芯片的大量细分化领域当中,大家也一定会迈入更强的提升。

Ⅷ 光刻机唯一上市公司

光刻机唯一上市公司是张江高科公司,光刻机(Mask Aligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:
1、高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常七纳米至几微米之间,高端光刻机号称世界上最精密的仪器,世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML(镜头来自德国),日本Nikon(intel曾经购买过Nikon的高端光刻机)和日本Canon三大品牌为主。
2、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机,形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。
3、生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机,分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。
拓展资料:
光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
1、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
2、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
3、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
4、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域,光源有汞灯,准分子激光器等。

Ⅸ 光刻机龙头股的业绩排名

光刻胶的龙头 是容大感光 南大光电也很好